گزارشهایی که از مهندسی معکوس موفق یک دستگاه EUV متعلق به ASML در یک آزمایشگاه مخفی چینی خبر میدادند، در ابتدا شوک بزرگی به صنعت نیمههادی وارد کردند. این خبرها چنین القا میکردند که چین توانسته یکی از پیشرفتهترین و حساسترین فناوریهای جهان را دور بزند و بهطور مستقل بازسازی کند؛ فناوریای که ستون فقرات تولید تراشههای پیشرفته محسوب میشود.
اما بررسیهای دقیقتر، بهویژه بر اساس گزارش Tom’s Hardware، نشان میدهد واقعیت با این روایت فاصله زیادی دارد. نمونه موسوم به «دستگاه EUV چینی» در عمل چیزی جز یک سازه ناقص از قطعات نامتناسب و دستدوم نیست که از مسیرهای مختلف، از جمله بازارهای تجهیزات مازاد و قطعات یدکی آنلاین، گردآوری شده و تاکنون حتی موفق به تولید یک تراشه هم نشده است.
چالش اصلی در اینجا، پیچیدگی خارقالعاده فناوری لیتوگرافی EUV است. دستگاههای ASML حاصل یک نقشه واحد یا فناوری قابل سرقت نیستند، بلکه نتیجه دههها همکاری تحقیق و توسعه میان هزاران شرکت در آمریکا، اروپا و ژاپن هستند؛ شبکهای که هر بخش آن، از اپتیک و خلأ گرفته تا نرمافزار و ابزارهای کنترلی، کاملاً انحصاری است.
یکی از حساسترین اجزای این اکوسیستم، منبع نور EUV ساخت شرکت آمریکایی Cymer است که ASML آن را در سال ۲۰۱۲ خریداری کرد. این سیستم با استفاده از لیزر CO₂ و پلاسمای قلع، نور ۱۳.۵ نانومتری تولید میکند و شامل مجموعهای بسیار پیچیده از واحدهای هدفگیری لیزر، کاهش آلودگی و آینههای جمعکننده است؛ فناوریای که حتی بازسازی فیزیکی آن نیز بدون نرمافزارهای اختصاصی عملاً بیفایده خواهد بود.
در نهایت، حتی اگر چین بتواند به برخی قطعات سختافزاری دست پیدا کند، نبود نرمافزارهای یکپارچه، اپتیک فوقدقیق شرکت زایس و شبکه دانش انسانی گسترده ASML، ساخت یک سیستم EUV عملیاتی را تقریباً ناممکن میکند. در بهترین حالت، شرکتهای چینی با ارتقای محدود دستگاههای قدیمی DUV توانستهاند کمی بازدهی را بهبود دهند، اما فاصله آنها با توان واقعی EUV همچنان بسیار زیاد و پابرجاست.
